科华公司在美国波士顿设有研发实验室，开展树脂和光刻胶合成及相关基础评价，同时与美国的Nanotech、Triangle National Lab (TNL) 和Georgia Institute of Technology (GIT)及美国的光刻胶原料公司Dupont、DayChem等均建立了良好的合作关系。
科华公司拥有先进的分析测试与应用测试平台：2009年公司建成了I线光刻胶应用实验室，配有最小分辨率达0.45um的Nikon步进式曝光机、Track和CD SEM，可以对G/I线光刻胶进行全面的应用评估。2012年科华公司依托02国家重大专项建成了248nm光刻胶分析测试及应用测试平台，平台配有ASML PAS5500/800扫描式曝光机，其最小分辨率可达0.11um，TEL ACT8涂胶显影一体机和Hitachi S9220 CD SEM；同时公司配有Hitachi S4800 X SEM 可以对光刻胶的形貌进行分析。上述分析测试与应用测试设备确保了公司有足够的硬件条件进行光刻胶的开发。
科华公司拥有较高的生产线设计和建设实力，2009年建成投产的国内第一条具有自主知识产权的紫外正性光刻胶生产线，结束了集成电路用高分辨ｇ线正胶、ｉ线正胶依赖进口的局面。2012年建成了国内第一条248nm深紫外光刻胶的生产线，更使得企业成为国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的光刻胶公司，并跻身于世界前十名。
2014年，科华公司通过了三安、华灿、德豪、蓝光等国内最大的LED企业的技术验证与客户端评价，更通过了全球最大的LED企业-台湾晶电的验证评价，获得了首肯并取得第一笔订单，成为全球LED行业光刻胶的主供应商之一。同期科华公司的248nm深紫外光刻胶也取得了国内最大的集成电路制造企业中芯国际的订单，更加稳固了其在中国光刻胶领域的领军地位。
